對于一般的內部結構觀察，使用傳統的機械研磨即可以達到需要的分析效果；但是對于某些精度要求較高或是機械研磨外部應力會產生影響的情況下，使用高精度、無應力的研磨 - 離子研磨就很有必要。
離子研磨實現的過程中，首先通過一個高壓電極來對氬氣進行電離，從而形成氬離子；繼而再通過一個高壓電場來對氬離子實施加速，經過帶有偏轉電場的離子槍頭，使其形成離子束對需要研磨的基材樣品進行轟擊，將樣品表面物質以原子的形態清除出去，以使得樣品達到無應力研磨的效果。
我們的離子研磨拋光儀是通過物理科學技術來加強樣品表面特性。使用惰性氣體中具有代表性的氬氣作為氣源，通過加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內，通過這種動量轉換的方式，氬氣離子去撞擊樣品表面從而達到無應力損傷的SEM觀察樣品。
1.雙離子束源
離子研磨拋光儀1060配有兩束離子束，可以同時聚焦在樣品表面，這樣大大提高了研磨拋光速度。離子束體積小，zui小化了氣體的需求量，但卻能釋放很大的能量。當操作高能量時，即使在低角度的情況下，研磨速度也很快；當操作低能量時，樣品表面材料濺射出的同時也不會帶來其他雜質。
2.真空艙體和快速樣品傳遞
SEM離子研磨拋光儀1060的真空艙體保證了設備操作過程中持續真空，預真空鎖使真空艙體與外部環境隔離，保證了樣品轉移過程中的真空環境。小尺寸的樣品艙在后期維護中清理也更加簡便。
3.實時樣品觀察
遮板可以阻止濺射的材料干擾樣品觀察。樣品表面上方內置光源用以照明。 體視顯微鏡-選配 SEM離子研磨拋光儀可以通過一臺體視顯微鏡做樣品觀察。由于體視顯微鏡的工作距離較大，在研磨的時候可以直接在原處觀察； 高倍率的顯微成像系統-選配 SEM離子研磨切割儀可以配置一臺高倍率的顯微鏡、數碼相機以及視頻顯示器，通過抓取圖像并將圖像投影到顯示器上，此種方式是制備特定位置樣品的一個理想方式。 當使用高倍顯微成像系統時，樣品將被傳送到預真空鎖的真空環境中拍照，然后再返回原位置繼續研磨拋光操作。
4.可電腦編程控制樣品移動
離子研磨拋光儀1060具備樣品高度自動感應功能，目前業界僅我們的1060具備此功能。這也方便了操作者可以通過電腦編程來對樣品進行重復定位、調節旋轉速度和往復擺動角度。
